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【工作內(nèi)容】 - 負責納米級光刻圖形的設計與掩膜版的優(yōu)化工作，確保圖形質(zhì)量達到行業(yè)標準。 - 進行CD均勻性檢測，執(zhí)行套刻精度驗證，保證光刻工藝的穩(wěn)定性和一致性。 - 編寫光刻膠選擇指南，制定曝光參數(shù)矩陣，提高光刻效率和成品率。 - 監(jiān)控并控制圖形缺陷密度，使其保持在0.1個/mm2以下，以確保產(chǎn)品質(zhì)量。 - 實施光刻誤差溯源分析，提出有效的補償方案，持續(xù)改進光刻工藝。 - 參與光刻相關技術的研發(fā)工作，推動公司技術水平的進步。 【任職要求】 - 擁有微電子工程或相關領域的碩士及以上學位，具有扎實的專業(yè)基礎。 - 熟練掌握EBL（電子束光刻）和納米壓印技術，具備豐富的實際操作經(jīng)驗。 - 至少5年以上的亞波長光刻工作經(jīng)驗，熟悉先進的光刻設備和工藝流程。 - 具備良好的數(shù)據(jù)分析能力和問題解決能力，能夠獨立完成光刻工藝中的各項任務。 - 工作態(tài)度嚴謹認真，具有團隊合作精神和較強的溝通協(xié)調(diào)能力。